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摘要

真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成踫撞使結晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮,果如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射,結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。   (2)中頻設備必須加冷卻水,原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應,電荷會聚集在電導有表面積,這樣使電導發熱所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。   (3).(主要是圓柱靶)為什麼也要用水冷卻?磁控濺射靶在發射時會產生高溫會使射槍變形,所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好。 

產品介紹

真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成踫撞使結晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮,果如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射,結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。   (2)中頻設備必須加冷卻水,原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應,電荷會聚集在電導有表面積,這樣使電導發熱所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。   (3).(主要是圓柱靶)為什麼也要用水冷卻?磁控濺射靶在發射時會產生高溫會使射槍變形,所以它有一個水套來冷卻射槍。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好。   從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運動規律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質原因。磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩定  。). 冷水機是一種水冷卻設備,能提供恆溫、恆流、恆壓的冷卻水設備。其工作原理是先向機內水箱注入一定量的水,通過制冷系統將水冷卻,再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設備,冷凍水將熱量帶走後溫度升高再回流到水箱,達到冷卻的作用。冷卻水溫可根據要求自動調節,長期使用可節約用水。   冷水機能控制真空鍍膜機的溫度,以保證鍍件的高質量。如果不配冷水機就不能使真空鍍膜機達到高精度、高效率控制溫度的目的,因為自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響,而且此方式控制是極不穩定的。   冷水機具有完全獨立的制冷系統,絕不會受氣溫及環境的影響,水溫在5℃ ∼30℃ 範圍內調節控制,因而可以達到高精度、高效率控制溫度的目的,冷水機設有獨立的水循環系統 真空鍍膜原理︰真空鍍膜就是在高真空狀態下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發,使鋁的蒸汽沉澱堆積到塑料薄膜表面上,從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤。首先將卷筒狀的待鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機的放卷站上,將薄膜穿過冷卻輥(蒸鍍輥)卷繞在收卷站上,用真空泵抽真空,使蒸鍍室中的真空度達到6×10-2pa以上,

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